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场发射扫描电子显微镜

简要描述:蔡司GeminiSEM可助您轻松实现亚纳米级分辨率的成像。出色的成像和分析技术更使FE-SEM(场发射扫描电子显微镜)如虎添翼。

基础信息

产品型号

GeminiSEM 560

厂商性质

代理商

更新时间

2025-11-06

浏览次数

9
详细介绍
品牌ZEISS/蔡司应用领域综合

蔡司GeminiSEM 560

FE-SEM满足亚纳米成像、分析和样品灵活性的高要求

蔡司GeminiSEM可助您轻松实现亚纳米级分辨率的成像。出色的成像和分析技术更使FE-SEM(场发射扫描电子显微镜)如虎添翼。我们采用创新的电子光学系统和全新样品仓设计,不仅操作更加简便,用途更加灵活多样,还可为您带来更高的图像质量。无需水浸物镜即可拍摄低于1 kV的亚纳米级图像。探索蔡司Gemini电子光学系统的三种设计:

l分析测试平台的理想选择——蔡司GeminiSEM 360

l实现高效分析——蔡司GeminiSEM 460

l表面成像的新标准——蔡司GeminiSEM 560

场发射扫描电子显微镜


GeminiSEM 560(场发射扫描电子显微镜)全面提升了表面灵敏度、无畸变、高分辨率成像的标准,能够在低于1kV的条件下轻松成像。还引入了Gemini 3镜筒及全新的电子光学引擎SmartAutopilot,能在任何工作条件下达到该系列的高分辨率。

表面成像的新标准

整合专业知识

体验出色的衬度

场发射扫描电子显微镜

场发射扫描电子显微镜

轻松实现1kV以下成像

✔ Gemini 3镜筒在低于1 kV、分辨率低于1 nm的条件下进行无漏磁成像,且无需样品台偏压或单色器。其包含Nano-twin物镜和全新的电子光学引擎Smart Autopilot。

✔ 采用全新可变压力模式和探测系统可获得非导电物质的图像:在VP模式下,通过低光毒性样品交换舱后,将真空敏感样品放入样品仓,可确保在保留特征的同时快速获得结果。

✔ 利用带双EDS端口的全新大样品仓轻松分析精细样品。出色的探测器立体角确保您获得快速、无阴影的成像。

场发射扫描电子显微镜

整合专业知识

✔ 该系统的观察视野大大增加,从而可以轻松进行简便的样品导航。

✔ 对于要求极为严苛的样品,全新的电子光学引擎Smart Autopilot大幅提升了成像速度。其可以节省时间,让您无需进行耗时的对焦:此款引擎能够驱动电子光学系统,放大倍率范围从小于1倍到高达500,000倍,可全程进行自动对中、校准和聚焦。获得全新视差自动聚焦也包含在内,全新的自动摆动功能为您在数秒之内提供清晰图像。

✔ Python脚本可在三维STEM断层扫描成像等自动化工作流中使用这些功

场发射扫描电子显微镜

体验出色的衬度

✔ 在您设置的工作前提下找到有效点意味着您已经选择了正确的参数组合,而实现理想图像的诀窍则是找到该参数组合。Gemini无漏磁技术及其全新的Gemini 3镜筒可为您呈现理想的参数组合,助您探索新信息。

✔ 样品上的磁场小于2 mT,能轻松实现磁畴衬度成像。采用可进行能量选择的Inlens背散射探测器可执行能量光谱成像,采用环形背散射探测器可执行电子环形光谱成像。

✔ 使用ZEN Connect将所有数据汇集在一起,细分并报告您的发现。


在低于1kV条件下成像——整合专业知识

Gemini 3光学系统优化了低电压和极低电压下的分辨率并实现了衬度增强,确保从1 kV到30 kV的所有工作条件下成像效果可达高分辨率且包含两个彼此协同运作的组件:Nano-twin物镜和全新的电子光学引擎Smart Autopilot。此外,它还具有高分辨率电子枪模式和可选的样品台减速技术(Tandem decel)。

分辨率模式——让您看到更多细节

通过两种模式可获得SEM图像的更多细节和更多探测信号。在高分辨率电子枪模式下,电子束色差降低,从而实现了更小的束斑;在样品台减速技术模式下,为样品施加减速电压,从而可进一步提高1 kV以下的图像分辨率并增强背散射探测器的检测效率。

场发射扫描电子显微镜

Nano-twin物镜的优势:

● 在低电压和超低电压下达到亚纳米级分辨率,实现更出色的信号探测效率。

● 与标准Gemini物镜相比,在低电压下的物镜像差降低了三倍,从而使样品上的磁场降低了三倍,约为1 mT。

● 优化几何结构和静电场及磁场分布。

● Inlens探测器在低电压成像条件下的信号得到增强。

● 这些特性提供了在低于1 kV的条件下完成亚纳米级成像的能力,而无需将样品浸入电磁场中。

场发射扫描电子显微镜

工作原理:

● Smart Autopilot优化了通过镜筒的电子轨迹,从而确保了在每个加速电压下尽可能高的分辨率。

● 该自动功能实现了在整个放大倍率范围内(从1倍到2,000,000倍)的无缝对准自由切换,并将观察视野增加了10倍,从而可以在单幅图像中对13 cm的物体成像。

● 32k×24k的图像存储分辨率与新的概览模式相结合,确保在超大观察视野内获得无拼接的像素密度。


工业用显微镜解决方案

典型任务与应用

力学、光学或电子组件的失效分析

断裂分析和金相研究

表面、微观结构和器件表征

成分和相分布

确定杂质和夹杂物

场发射扫描电子显微镜


生命科学中的应用

典型任务与应用

拓扑结构的表征

对敏感、非导电、除气或低衬度样品进行成像

细胞、组织等超微结构的高分辨率成像

进行超大面积成像,如连续切片或切面成像

场发射扫描电子显微镜

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