产品简介 真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性；*的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。详情介绍 真空紫外椭偏仪 专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性；*的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。 真空紫外椭偏仪 产品特点 50KHz 高频PEM 相位调制技术 45 秒内完成充氮气 2 分钟内完成样品室抽真空 8 分钟内完成光谱全谱范围内测量两种工作模式：氮气清洗结合抽真空、连续氮气清洗光谱范围：147nm~850nm；147nm~2100nm 重点应用领域超薄膜 157nm 光刻新材料有机材料、高分子材料高k 材料：HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz 抗反射涂层半导体和介电材料电子跃迁 MgF2、CaF2、LaF3 上一篇：定制化光谱系统下一篇： SLFA-60便携式X射线荧光硫分析仪

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简要描述：真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性；*的超快测量速度；快速样品室抽真空...

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