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【02材料表征核心技术】之XRD技术:应变缺陷综合表征系统
副标题:从Aeris快速筛查到多维度表征的一体化解决方案发布信息发布日期:2025年08月01日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器阅读时间:约8分钟关键词:X射线衍射、XRD、应变分析、缺陷表征、Aeris紧凑型XRD、高通量筛查、森德仪器摘要材料内部残余应力与微观缺陷是决定其服役性能与可靠性的关键因素。构建高效的应变缺陷综合表征系统,需要匹配不同精度与效率需求的解决方案。本文提出一种分级工作流:首先,利用Aeris紧凑型XRD进行快速、高通量的初步筛查与趋势分析,...
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【02材料表征核心技术】之GD-MS技术:ppt级杂质精准检测方法
副标题:构建高纯材料分析实验室的关键要素解析发布信息发布日期:2025年07月25日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器阅读时间:约15分钟关键词:GD-MS、辉光放电质谱、ppt级检测、高纯材料、杂质分析、实验室基础设施、森德仪器摘要实现材料中ppt(万亿分之一)级别杂质的精准检测,是半导体、核工业、航空航天等前沿领域材料研发与质量控制的核心挑战。辉光放电质谱(GD-MS)技术因其对固体样品的直接分析能力和灵敏度,成为解决这一难题的黄金标准。然而,要确保GD-MS分...
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【02材料表征核心技术】之晶圆污染物:从颗粒到分子级检测技术
副标题:结合Nicolet™iS20FTIR光谱仪实现污染物分子级溯源与过程控制闭环发布信息发布日期:2025年07月20日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器阅读时间:约12分钟关键词:晶圆污染物、分子级检测、FTIR光谱仪、失效分析、过程监控、化学指纹图谱、光谱数据库、森德仪器、半导体质量控制摘要随着半导体制造工艺向5纳米及以下节点推进,晶圆表面污染物检测已从单纯的颗粒计数发展为集物理、化学分析于一体的系统性表征技术。本文系统阐述了晶圆污染物检测技术从...
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【04缺陷检测与失效分析】之X射线检测:2D/3D封装分析系统
基于蔡司Xradia515Versa的高分辨率三维无损检测技术解析发布信息发布日期:2023年11月15日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器阅读时间:约8分钟关键词:X射线检测、缺陷检测、失效分析、2D封装、3D封装、X射线显微镜、亚微米成像、无损检测、蔡司Xradia、森德仪器、实验室设备摘要本文深入解析基于蔡司Xradia515VersaX射线显微镜构建的2D/3D封装分析系统在缺陷检测与失效分析中的应用。该系统采用的大工作距离高分辨率(RaaD)成像技术,在保...
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【04缺陷检测与失效分析】之热光发射显微:热点漏电定位解决方案
副标题:ThermoScientific™ELITE系统在半导体失效分析中的高精度热成像应用发布信息发布日期:2025年7月31日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器、检测设备阅读时间:约8分钟关键词:锁相红外热成像、LIT、热光发射显微、热点定位、漏电分析、失效分析、半导体测试、森德仪器、ELITE系统摘要随着半导体工艺节点不断微缩、三维集成技术快速发展,器件内部的缺陷检测和失效分析面临的挑战。局部漏电、微短路等缺陷通常伴随着微弱的热信号,如何在复杂的封...
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【04缺陷检测与失效分析】之FIB关键应用:电路修复与样品制备技术
副标题:聚焦离子束技术的双重角色:从纳尺度精确修复到高质量分析样品制备发布日期:2023年11月7日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器/显微加工设备阅读时间:约12分钟关键词:聚焦离子束、电路修复、样品制备、TEM制样、FIB-SEM、微纳加工、失效分析、森德仪器摘要聚焦离子束技术作为现代微纳加工与分析的革命性工具,在缺陷检测与失效分析领域扮演着两大关键角色:一是高精度的纳尺度电路修复,二是用于分析的高质量样品制备。本文深入探讨了FIB在这两个核心应用中的技术原理、...
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【04缺陷检测与失效分析】之失效分析流程:现象到根因系统方法
副标题:构建从宏观现象到微观机理的完整分析链条与仪器解决方案发布日期:2026年1月30日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器/检测设备阅读时间:约15分钟关键词:失效分析、根因分析、检测流程、仪器配置、缺陷定位、森德仪器摘要失效分析是保障产品质量、提升工艺水平、推动技术创新的核心工程技术。本文系统阐述了一套从失效现象出发,逐步深入直至发现根本原因的科学分析流程与方法。文章构建了一个从宏观现象观察、非破坏性定位、样品制备处理到微观结构/成分/物性分析的完整技术链条,并...
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【04缺陷检测与失效分析】之电子束检测:高分辨率EBR技术原理与应
副标题:基于蔡司GeminiSEM360场发射扫描电镜的高分辨率缺陷成像与分析技术深度解析发布日期:2026年1月30日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器/显微成像设备阅读时间:约10分钟关键词:电子束检测、高分辨率成像、场发射扫描电镜、缺陷检测、失效分析、GeminiSEM、亚纳米分辨率、森德仪器摘要随着半导体制造、材料与纳米技术领域对缺陷检测精度要求的不断提升,高分辨率电子束检测技术已成为核心分析手段。本文聚焦于高分辨率电子束检测(EBR)的技术原理与前沿应用,...
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【04缺陷检测与失效分析】之激光扫描显微:亚表面缺陷无损定位技术
副标题:基于SOPTOPCLSM610激光共聚焦系统的亚表面无损检测方案与实践发布日期:2026年1月30日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:分析仪器/显微成像设备阅读时间:约12分钟关键词:亚表面缺陷检测、激光共聚焦显微镜、无损定位、三维重建、CLSM610、材料科学、失效分析、森德仪器摘要亚表面缺陷的无损定位是现代材料失效分析与质量控制的关键技术挑战。本文系统介绍了激光扫描共聚焦显微技术在亚表面缺陷检测中的应用原理与技术优势,重点结合SOPTOPCLSM610激光共聚焦...
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【04缺陷检测与失效分析】之明暗场显微优化:缺陷对比度提升技巧
副标题:基于徕卡DM2700M金相显微镜的系统配置与优化实践,实现材料表面缺陷的高对比度识别发布日期:2026年1月30日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:检测设备/显微分析仪器阅读时间:约8分钟关键词:缺陷检测、失效分析、明暗场显微镜、对比度提升、金相分析、徕卡DM2700M、材料表征、森德仪器摘要在材料科学与工业质量控制领域,明暗场光学显微技术是实现表面与近表面缺陷无损、快速检测的核心手段。缺陷对比度的优劣直接决定了检测的灵敏度与可靠性。本文聚焦于明暗场显微成像的对比度...
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【04缺陷检测与失效分析】之晶圆缺陷检测:宏观到纳米级技术路线
副标题:从全场快速筛查到三维纳米解构——构建半导体制造的全尺度、全自动化缺陷分析与控制体系发布日期:2026年1月30日作者:森德仪器/应用技术部仪器类别:精密检测与分析仪器阅读时间:约18分钟关键词:晶圆缺陷检测、半导体失效分析、工艺控制、自动光学检测、电子束检测、等离子体聚焦离子束、扫描电镜、三维计量、自动化工作流、良率提升、森德仪器摘要本文系统性地阐述了在现代半导体制造中,实现从宏观(毫米级)到纳米级缺陷检测与失效分析的完整技术路线与设备体系。随着工艺节点进入个位数纳米...
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关于ATR Super SPE 360全自动超级固相萃取仪的技术解析
关于ATRSuperSPE360全自动超级固相萃取仪的技术解析副标题:高通量、全自动、集成浓缩的现代化样品前处理平台发布日期:2024年1月22日作者:森德仪器应用技术部仪器类别:样品前处理设备/自动化设备阅读时间:约7分钟关键词:固相萃取仪、全自动SPE、样品前处理、在线浓缩、高通量、农残检测、环境分析、森德仪器摘要本文深入解析ATRSuperSPE360全自动超级固相萃取仪的创新设计、智能控制与高效整合能力。该设备将传统的固相萃取活化、上样、淋洗、洗脱步骤与氮吹浓缩、溶剂...
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